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国立研究開発法人 産業技術総合研究所（産総研）が、2023 年 10 月 1 日に “次世代コンピューティング基盤戦略” を策定するとともに、戦略の目標実現に向けた研究開発の活動を促進するために、新たに “先端半導体研究センター（SFRC）” を設立したことを発表しています。
目次
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- 1. “先端半導体研究センター（SFRC）” について
- 2. 国立研究開発法人 産業技術総合研究所（産総研）関連記事一覧
- 3. コメントを残す
ポイント
- 半導体が、生活のさまざまな場面で活用され、社会課題の解決や産業競争力強化においてなくてはならない存在になっています。
- 昨今のデータ活用を推進するデジタル トランスフォーメーション（DX）や脱炭素を目指すグリーン トランスフォーメーション（GX）は、さらにこの流れを加速させています。
- また、経済安全保障の観点からも、半導体の重要性が増しており、経済産業省の “半導体 デジタル産業戦略” において、半導体製造基盤を日本に確保するとともに、次世代技術の確立や将来技術の研究開発を推進する方針が明記されています。
- ※ 半導体 デジタル産業戦略：2021 年 6 月公開、2023 年 6 月改定
- また、国立研究開発法人 産業技術総合研究所（産総研）では、”次世代コンピューティング基盤戦略” を策定するとともに、戦略の目標実現に向けた研究開発行ってきており、今回、これらの活動を加速し、日本にも先端半導体技術を確保することを目標に、本センターの設置にいたったとのこと。
- ※次世代コンピューティング基盤戦略：2022 年
- なお、本センターの特徴として、研究開発、共用パイロット ラインの構築、社会実装、人材育成を一貫して推進することにあり、特に研究開発分野においては、以下の 5 つの課題に重点に取り組む予定とのことです。
- 1. 2 nm 世代で実用化されるゲート オール アラウンド（GAA）構造の電界効果トランジスタ（FET）の基盤技術と先端構造技術の確立
- 2. 2 nm 世代以降に向けた極限デバイス、材料技術
- 3. 微細化によらずに性能を向上する 3 次元集積技術
- 4. 最先端システム オン チップ（SoC）設計
- 5. 半導体製造の環境負荷評価およびグリーン化
- これらの開発には、共用設備であるスーパー クリーン ルーム（SCR）や未踏デバイス試作共用拠点（COLOMODE）、AI チップ設計拠点を主に活用します。
- また、これらの設備において、研究開発と試作サービス提供、人材育成を一体として実施することで、先端半導体のオープン イノベーションを推進する中核拠点となることを目指します。
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関連リンク
- ・産総研：”先端半導体研究センター”を新たに設立 – 研究開発から社会実装、人材育成までを担い、国内に先端半導体技術を確保 -：https://www.aist.go.jp/aist_j/news/pr20231001.html
- ・AIST：産業技術総合研究所：https://www.aist.go.jp/
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